you are here: TOP > 技術シートの検索 > マトリクス検索  > 検索リスト   ●カテゴリー 廃酸x省資源化　　　　　　　　　　1-1/1件 1.エコ洗浄技術−ウェットオゾンガスによるレジスト除去装置−(JP-0168) 三菱電機�� 半導体など電子基板の写真製版工程で不要になったﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄを除去する必要があり、現在はコストが高く極めて有害な薬液が大量に使用されている。我々は環境に優しく酸化力の強いオゾンを用いた